Optimization of deposition parameters for MPCVD diamond coatings grown on WC-Co substrates using the Taguchi and analytical hierarchy process methods

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标题	Optimization of deposition parameters for MPCVD diamond coatings grown on WC-Co substrates using the Taguchi and analytical hierarchy process methods 用田口和层次分析法优化WC-Co衬底上MPCVD金刚石涂层的沉积参数相关领域田口方法碳化钨材料科学钻石基质（水族馆）钨沉积（地质）分析化学（期刊）机械工程复合材料冶金工程类化学色谱法古生物学沉积物地质学海洋学生物
网址	https://doi.org/10.1139/tcsme-2020-0148
DOI	10.1139/tcsme-2020-0148 doi
其它	期刊：Transactions of the Canadian Society for Mechanical Engineering 作者：Xiaogang Jian; Jibo Hu; Jinyao Tang; Qianli Ma 出版日期：2021-12-01
求助人	向聿在 2024-07-24 09:43:00 发布自湖北，悬赏 30 积分
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