EUV resist chemical gradient enhancement by UV flood exposure for improvement in EUV resist resolution, process control, roughness, sensitivity and stochastic defectivity

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标题	EUV resist chemical gradient enhancement by UV flood exposure for improvement in EUV resist resolution, process control, roughness, sensitivity and stochastic defectivity 通过UV泛光曝光增强EUV抗蚀剂化学梯度以改善EUV抗蚀剂分辨率、过程控制、粗糙度、灵敏度和随机缺陷相关领域抵抗极紫外光刻进程窗口材料科学极端紫外线光学表面粗糙度灵敏度（控制系统）平版印刷术纳米技术光电子学物理激光器电子工程复合材料工程类图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.2552166
DOI	10.1117/12.2552166 doi
其它	期刊：作者：Seiji Nagahara; Cong Que Dinh; Keisuke Yoshida; Gosuke Shiraishi; Yoshihiro Kondo; et al 出版日期：2020-03-30
求助人	宁友灵在 2024-03-19 11:35:55 发布自北京，悬赏 20 积分
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