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 Study of La-Induced Flat Band Voltage Shift in Metal/HfLaOx/SiO2/Si Capacitors 金属/HfLaOx/SiO2/Si电容器中La引起的平带电压漂移的研究
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Y. Yamamoto; Koji Kita; Kentaro Kyuno; Akira Toriumi 出版日期：2007-11-01 |
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