标题 |
Modeling of Advanced FinFET Dummy Gate Corner Residue Impacted By Clogging
堵塞影响下先进FinFET虚拟栅角残余物的模拟
相关领域
堵塞
残留物(化学)
材料科学
工程物理
工程类
地理
化学
生物化学
考古
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DOI | |
其它 |
期刊:ECS transactions 作者:Xingyu Xiao; Ke Xing; Bo Su; Haiyang Zhang 出版日期:2021-10-01 |
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