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Thermal Atomic Layer Etching of Molybdenum Using Sequential Oxidation and Deoxychlorination Reactions
顺序氧化脱氧氯化反应热原子层刻蚀钼
相关领域
钼
蚀刻(微加工)
图层(电子)
热的
材料科学
热氧化
化学工程
纳米技术
冶金
热力学
物理
工程类
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期刊:Chemistry of Materials 作者:Taewook Nam; Troy A. Colleran; Jonathan L. Partridge; Andrew S. Cavanagh; Steven M. George 出版日期:2024-01-29 |
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