Novel polymeric anionic photo-acid generators (PAGs) and photoresists for sub-100-nm patterning by 193-nm lithography

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标题	Novel polymeric anionic photo-acid generators (PAGs) and photoresists for sub-100-nm patterning by 193-nm lithography 用于193纳米光刻亚100纳米图案化的新型聚合物阴离子光酸发生器和光致抗蚀剂相关领域光刻胶聚合物抵抗平版印刷术材料科学光刻高分子化学光电子学纳米技术复合材料图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.711477
DOI	10.1117/12.711477 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Mingxing Wang; Nathan D. Jarnagin; Wang Yueh; J. M. Roberts; Melina Tapia-Tapia; et al 出版日期：2007-03-16
求助人	觞f 在 2024-11-08 14:16:29 发布自江苏，悬赏 20 积分
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