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标题
Characterizing and Reducing the Layout Dependent Effect and Gate Resistance to Enable Multiple-Vt Scaling for a 3nm CMOS Technology
表征和降低布局相关效应和栅极电阻以实现3nm CMOS技术的多Vt缩放
相关领域
CMOS芯片 金属浇口 灵活性（工程） 电子工程 缩放比例 钝化 堆栈（抽象数据类型） 逻辑门 材料科学 MOSFET 计算机科学 光电子学 电气工程 图层（电子） 栅氧化层 工程类 纳米技术 晶体管 电压 数学 统计 程序设计语言 几何学
网址
https://doi.org/10.23919/vlsitechnologyandcir57934.2023.1018...
DOI
10.23919/vlsitechnologyandcir57934.2023.10185282 doi
其它 期刊：2022 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits)
作者：Chunte A. Lu; H.P. Lee; H.C. Chen; Yen-Chih Lin; Yong Hyun Chung; et al
出版日期：2023-06-11
求助人
卞仁吉 在 2025-01-21 14:36:33 发布自浙江，悬赏 10 积分
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