BEOL Post-Etch Clean Robustness Improvement with Ultra-Diluted Hf for 28nm Node

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标题	BEOL Post-Etch Clean Robustness Improvement with Ultra-Diluted Hf for 28nm Node 使用超稀释Hf提高28nm节点的BEOL蚀刻后清洁耐用性相关领域材料科学稳健性（进化）稀释薄脆饼氧化物硅工艺工程光电子学冶金热力学生物化学化学物理工程类基因
网址	https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.282.244
DOI	10.4028/www.scientific.net/ssp.282.244 doi
其它	期刊：Diffusion and defect data, solid state data. Part B, Solid state phenomena/Solid state phenomena 作者：Lucile Broussous; R. Fabre; Thomas Massin; Hiwadezu Ishikawa; Fabrice Buisine; et al 出版日期：2018-08-01
求助人	青青子衿在 2025-01-13 10:20:11 发布自湖北，悬赏 30 积分
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