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 Silicon and Silicon dioxide thin films deposited by ICPCVD at low temperature and high rate for MEMS applications 用于MEMS应用的低温高速ICPCVD沉积硅和二氧化硅薄膜
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期刊： 作者：Praveen Kumar Revuri; Dhirendra Kumar Tripathi; Mariusz Martyniuk; Dilusha Silva; Gino Putrino; et al 出版日期：2018-12-01 |
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