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The impact of deposition and annealing temperature on the growth properties and surface passivation of silicon dioxide films obtained by atomic layer deposition
沉积温度和退火温度对原子层沉积二氧化硅薄膜生长性能和表面钝化的影响
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期刊:Applied Surface Science 作者:Jiahui Xu; Shizheng Li; Wenjing Zhang; Yan Shang; Cui Liu; et al 出版日期:2021-04-01 |
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