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 Chemical trimming overcoat: an advanced composition and process for photoresist enhancement in lithography 化学修整涂层：光刻中增强光刻胶的先进组成和工艺
相关领域
光刻胶
修边
平版印刷术
材料科学
过程（计算）
抵抗
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复合材料
光电子学
计算机科学
操作系统
图层（电子）
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期刊： 作者：X. L. Hou; Cong Liu; Kevin Rowell; Irvinder Kaur; Mingqi Li; et al 出版日期：2018-03-13 |
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