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A Segmented‐Target Sputtering Process for Growth of Sub‐50 nm Ferroelectric Scandium–Aluminum–Nitride Films with Composition and Stress Tuning
成分和应力可调的亚50nm氮化钪铝铁电薄膜的分段靶溅射生长
相关领域
材料科学 残余应力 铁电性 钪 结晶度 氮化物 溅射 薄膜 复合材料 光电子学 冶金 纳米技术 电介质 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1002/pssr.202100087
DOI
10.1002/pssr.202100087 doi
其它 期刊：physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters
作者：Sushant Rassay; Faysal Hakim; Chao Li; Christian Forgey; Nitin Choudhary; et al
出版日期：2021-04-12
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