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标题
Maskless Lithographic Fine Patterning on Deeply Etched or Slanted Surfaces, and Grayscale Lithography, Using Newly Developed Digital Mirror Device Lithography Equipment
深度蚀刻或倾斜表面上的无掩模光刻精细图案化，以及灰度光刻，使用新开发的数字镜器件光刻设备
相关领域
无光罩微影 平版印刷术 光掩模 下一代光刻 材料科学 微电子机械系统 多重图案 电子束光刻 光刻 X射线光刻 光刻胶 光学 数字微镜装置 镜头（地质） 十字线 放大倍数 光电子学 纳米技术 抵抗 薄脆饼 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1143/jjap.51.06fb05
DOI
10.1143/jjap.51.06fb05 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Wataru Iwasaki; Toshihiro Takeshita; Yao Peng; Hiroaki Ogino; Hiromasa Shibata; et al
出版日期：2012-06-01
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Kuku吃的小马 在 2025-03-12 00:42:12 发布自河南，悬赏 10 积分
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