Epitaxial ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin film on a buffered YSZ substrate through interface reaction

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标题	Epitaxial ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin film on a buffered YSZ substrate through interface reaction 通过界面反应在缓冲YSZ衬底上外延铁电Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜相关领域材料科学氧化钇稳定氧化锆外延基质（水族馆）脉冲激光沉积锡铁电性立方氧化锆薄膜光电子学沉积（地质）纳米技术电介质陶瓷冶金图层（电子）海洋学生物地质学古生物学沉积物
网址	https://doi.org/10.1039/c8tc02941e
DOI	10.1039/c8tc02941e doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Tao Li; Nian Zhang; Zhuo Sun; Congwei Xie; Mao Ye; et al 出版日期：2018-01-01
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