标题 |
![]() 沟槽图案化AlN层上AlN的外延横向过度生长
相关领域
外延
材料科学
位错
沟槽
光电子学
沟槽(工程)
金属有机气相外延
复合材料
图层(电子)
冶金
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Crystal Growth 作者:Masataka Imura; Kiyotaka Nakano; Gou Narita; Naoki Fujimoto; Narihito Okada; et al 出版日期:2006-11-21 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|