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标题
Effect of Using High-Pressure Gas Atmosphere with UV Photocatalysis on the CMP Characteristics of a 4H-SiC Substrate
高压气体气氛和紫外光催化对4H-SiC基片CMP特性的影响
相关领域
材料科学 X射线光电子能谱 碳化硅 泥浆 光催化 化学工程 大气(单位) 基质(水族馆) 紫外线 光电子学 复合材料 催化作用 化学 有机化学 海洋学 物理 工程类 热力学 地质学
网址
DOI
10.1149/2162-8777/abe7a8 doi
其它 期刊:ECS Journal of Solid State Science and Technology
作者:Tao Yin; Panpan Zhao; Toshiro Doi; Syuhei Kurokawa; Jinyun Jiang
出版日期:2021-02-01
求助人
5r 在 2025-03-10 15:36:15 发布自湖北,悬赏 10 积分
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