标题 |
Polarity control of sputter-deposited AlN with high-temperature face-to-face annealing
用高温面对面退火控制溅射沉积AlN的极性
相关领域
材料科学
退火(玻璃)
极性(国际关系)
异质结
溅射
外延
光电子学
氮化物
半导体
图层(电子)
纳米技术
薄膜
复合材料
化学
生物化学
细胞
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其它 |
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Kanako Shojiki; Kenjiro Uesugi; Shiyu Xiao; Hideto Miyake 出版日期:2023-11-01 |
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