标题 |
Electronic regulation of MoS2 edge sites by d electron transfer of Ni or Co to improve the activity of CO sulfur-resistant methanation
Ni或Co的d电子转移对MoS2边缘位置的电子调节提高Co耐硫甲烷化活性
相关领域
甲烷化
催化作用
硫黄
过渡金属
空位缺陷
电子转移
化学
吸附
无机化学
材料科学
光化学
物理化学
结晶学
有机化学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Chemical Engineering Journal 作者:Qiang Wang; Weiwei Huang; Xin Li; Shuangxi Lin; Zhenhua Li; et al 出版日期:2024-01-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|