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标题
Effects of boron penetration and resultant limitations in ultra thin pure-oxide and nitrided-oxide gate-films
超薄纯氧化物和氮化氧化物栅极薄膜中硼渗透的影响及其限制
相关领域
渗氮 氧化物 硼 渗透（战争） 栅氧化层 材料科学 氮气 快速热处理 等效氧化层厚度 硅 光电子学 化学工程 纳米技术 冶金 电气工程 图层（电子） 化学 有机化学 晶体管 电压 工程类 运筹学
网址
https://doi.org/10.1109/iedm.1990.237140
DOI
10.1109/iedm.1990.237140 doi
其它 期刊：
作者：T. Morimoto; H.S. Momose; Yoshio Ozawa; Kikuo Yamabe; Hiroshi Iwai
出版日期：2002-12-04
求助人
杨小小 在 2025-02-03 21:49:16 发布自江苏，悬赏 10 积分
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  • 1小时前

    杨小小 杨小小 求助人 Lv11 发起了本次求助

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