N-type conduction of sputter-deposited polycrystalline Al0.78Sc0.22N films by Si ion implantation

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标题	N-type conduction of sputter-deposited polycrystalline Al0.78Sc0.22N films by Si ion implantation Si离子注入溅射沉积Al0.78Sc 0.22 N多晶薄膜的N型导电相关领域微晶材料科学溅射离子光电子学冶金化学薄膜纳米技术有机化学
网址	https://doi.org/10.35848/1882-0786/abd6a0
DOI	10.35848/1882-0786/abd6a0 doi
其它	期刊：Applied Physics Express 作者：Junji Kataoka; Sung‐Lin Tsai; Takuya Hoshii; Hitoshi Wakabayashi; Kazuo Tsutsui; et al 出版日期：2020-12-24
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