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标题
A nanoimprint lithography for fabricating SU-8 gratings for near-infrared to deep-UV application
用于制造近红外至深紫外应用的SU-8光栅的纳米压印光刻
相关领域
纳米压印光刻 材料科学 沟槽 平版印刷术 透射率 纳米光刻 光学 衍射 衍射效率 光刻 光电子学 波长 红外线的 衍射光栅 栅栏 制作 纳米技术 图层（电子） 物理 病理 医学 替代医学
网址
https://doi.org/10.1016/j.mee.2008.01.072
DOI
10.1016/j.mee.2008.01.072 doi
其它 期刊：Microelectronic Engineering
作者：Shenqi Xie; Jing Wan; Bing-Rui Lu; Yan Sun; Yifang Chen; et al
出版日期：2008-02-25
求助人
陈皮糖不酸 在 2025-01-16 10:55:19 发布自吉林，悬赏 10 积分
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