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 Oxygen plasma-assisted magnetron sputtering deposition of non-stoichiometric Y2O3 films: Influence of oxygen vacancies on etching resistance 氧等离子体辅助磁控溅射沉积非化学计量比Y2O3薄膜：氧空位对耐蚀性的影响
相关领域
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期刊：Surface & Coatings Technology 作者：Yi Wu; Shu Xiao; Yinong Chen; Wenlu Dong; Jiancheng Liu; et al 出版日期：2024-10-01 |
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