| 标题 |
 High‐Yield Production of High‐κ/Metal Gate Nanopattern Array for 2D Devices via Oxidation‐Assisted Etching Approach 氧化辅助蚀刻法高产率制备二维器件用高κ/金属栅极纳米图案阵列
相关领域
蚀刻（微加工）
材料科学
产量（工程）
纳米技术
金属
光电子学
冶金
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Small 作者：Weida Hong; Jiejun Zhang; Daobing Zeng; Chen Wang; Zhongying Xue; et al 出版日期：2024-08-02 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
杳鸢
张益萌
彭于彦祖
劲秉
yar
丰知然
个性的紫菜
cocolu
方赫然
我不爱池鱼
良辰
pluto
热心市民小红花
模糊中正
mhl11
wqqwd
萧水白
子车茗
8R60d8
shinysparrow
皖公网安备34019202002308
