Wafer scale epitaxial germanium on silicon (0 0 1) using pulsed laser annealing

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标题	Wafer scale epitaxial germanium on silicon (0 0 1) using pulsed laser annealing 利用脉冲激光退火在硅（0 0 1）上晶片级外延锗相关领域材料科学外延薄脆饼锗光电子学通量激光器退火（玻璃）结晶度硅无定形固体微晶光学纳米技术结晶学复合材料冶金物理化学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.matlet.2020.129208
DOI	10.1016/j.matlet.2020.129208 doi
其它	期刊：Materials Letters 作者：Khushboo Kumari; Sandeep Vura; Srinivasan Raghavan; Sushobhan Avasthi 出版日期：2020-12-16
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