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TSV Integration With Chip Level TSV-to-Pad Cu/SiO₂ Hybrid Bonding for DRAM Multiple Layer Stacking
用于DRAM多层堆叠的芯片级TSV至焊盘Cu/SiO_2混合键合的TSV集成
相关领域
德拉姆
堆积
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材料科学
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光电子学
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复合材料
有机化学
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Tzu-Heng Hung; James Yi-Jen Lo; Tzu-Ying Kuo; Shing-Yih Shih; Sheng-Fu Huang; et al 出版日期:2023-07-01 |
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