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 Maskless beam pen lithography based on integrated microlens array and spatial-filter array 基于集成微透镜阵列和空间滤波器阵列的无掩模光束笔光刻
相关领域
针孔（光学）
材料科学
微透镜
光学
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平版印刷术
光电子学
制作
准分子激光器
镜头（地质）
光刻
激光器
无光罩微影
电子束光刻
抵抗
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期刊：Optical Engineering 作者：Nazmul Hasan; Duc-Hanh Dinh; Hung-Yu Chien; Yung-Chun Lee 出版日期：2017-11-01 |
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