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标题
Nanoscale ferroelectric domain switching and thickness scaling impact in undoped hafnium-oxide ferroelectric devices
未掺杂氧化钼铁电器件中的纳米级铁电域切换和厚度缩放影响
相关领域
铁电性 纳米尺度 缩放比例 材料科学 光电子学 铪 氧化物 纳米技术 电介质 冶金 锆 几何学 数学
网址
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140400
DOI
10.1016/j.tsf.2024.140400 doi
其它 期刊：Thin Solid Films
作者：Chia-Chi Fan; Hsuan-Han Chen; Ruo-Yin Liao; Wu‐Ching Chou; Ching-Chien Huang; et al
出版日期：2024-06-01
求助人
Ain 在 2024-11-20 18:55:44 发布自陕西，悬赏 10 积分
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