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 Effects of deposition precursors of hydrogenated amorphous carbon films on the plasma etching resistance based on mass spectrometer measurements and machine learning analysis 基于质谱测量和机器学习分析的氢化非晶碳薄膜沉积前体对等离子体耐蚀性的影响
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期刊：Vacuum 作者：Jumpei Kurokawa; Hiroki Kondo; Takayoshi Tsutsumi; Kenji Ishikawa; Makoto Sekine; et al 出版日期：2022-08-02 |
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