| 标题 |
 Influence of plasma power on deposition mechanism and structural properties of MoOx thin films by plasma enhanced atomic layer deposition 等离子体功率对等离子体增强原子层沉积MoOx薄膜沉积机理和结构性能的影响
相关领域
原子层沉积
X射线光电子能谱
沉积（地质）
等离子体
无定形固体
图层（电子）
薄膜
钼
材料科学
分析化学（期刊）
化学工程
化学
纳米技术
物理
结晶学
冶金
工程类
生物
沉积物
古生物学
量子力学
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Chen Wang; Chun-Hui Bao; Wan-Yu Wu; Chia‐Hsun Hsu; Ming-Jie Zhao; et al 出版日期：2021-05-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
藤椒辣鱼
毛豆
Guozixin
吡咯爱成环
duanhuiyuan
iNk
暴躁的老哥
火星上的菲鹰
竹精灵
不配.
杳鸢
白粥
tuanheqi
坚强的广山
归尘
嗯哼
挖菜
qrwyqjbsd
yyds
兼听则明
皖公网安备34019202002308
