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Versatile nanosphere lithography technique combining multiple-exposure nanosphere lens lithography and nanosphere template lithography
结合多重曝光纳米球透镜光刻和纳米球模板光刻的通用纳米球光刻技术
相关领域
纳米球光刻
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下一代光刻
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光刻
光电子学
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期刊:Chinese Optics Letters 作者:Yonghui Zhang Yonghui Zhang; Zihui Zhang Zihui Zhang; Chong Geng; Shu Xu; Tongbo Wei Tongbo Wei; et al 出版日期:2017-01-01 |
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