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 In situ XPS spectroscopic study of thermal stability of W/Ni bilayer Ohmic contact to n-type 4H-SiC W/Ni双层欧姆接触对n型4H-SiC热稳定性的原位XPS光谱研究
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Mengmeng Gao; Shu-yue Jiang; Duo Cao; Zhi‐Zhan Chen 出版日期：2020-05-06 |
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