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 Study of the effect of PCM process parameters on geometry type, Ra, depth of etch, undercut comparing FeCl3 and CuCl2 etchants on Monel 400 PCM工艺参数对Monel 400上FeCl3和CuCl2蚀刻剂几何形状、Ra、刻蚀深度、底切的影响
相关领域
咬边
蒙乃尔合金
材料科学
蚀刻（微加工）
氯化物
铁
冶金
复合材料
表面光洁度
表面粗糙度
合金
图层（电子）
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| 其它 |
期刊：Advances in Materials and Processing Technologies 作者：Deepakkumar H. Patil; Shrikant Thorat; Mudigonda Sadaiah 出版日期：2023-04-24 |
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