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[高分] 学位论文 Topography simulation of intermetal dielectric deposition and interconnection metal deposition processes
相关领域
材料科学
沉积(地质)
电介质
原子层沉积
互连
光电子学
图层(电子)
复合材料
基质(水族馆)
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DOI |
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其它 | Thesis (Ph. D.)--Stanford University, 1996. |
求助人 |
研友_84mPRL
在
2022-05-25 09:43:24 发布,悬赏 50 积分
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