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标题
CAT-CVD Process and its Application to Preparation of Si-Based Thin Films
CAT-CVD工艺及其在硅基薄膜制备中的应用
相关领域
材料科学 化学气相沉积 多晶硅 非晶硅 氮化硅 薄膜 沉积(地质) 无定形固体 纳米技术 化学工程 光电子学 图层(电子) 薄膜晶体管 晶体硅 有机化学 古生物学 化学 沉积物 工程类 生物
网址
DOI
10.1557/proc-557-67 doi
其它 期刊:MRS Proceedings
作者:Hideki Matsumura; Atsushi Masuda; Akira Izumi
出版日期:1999-01-01
求助人
张丹阳 在 2025-02-06 21:43:32 发布自陕西,悬赏 10 积分
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    张丹阳 张丹阳 求助人 Lv21 发起了本次求助


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