Effect of abrasive particle size and oxidant concentration on CdZnTe crystal properties during CMP process

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标题	Effect of abrasive particle size and oxidant concentration on CdZnTe crystal properties during CMP process CMP过程中磨料粒度和氧化剂浓度对CdZnTe晶体性能的影响相关领域材料科学粒径化学机械平面化过程（计算）磨料 Crystal（编程语言）粒子（生态学）复合材料结晶学化学工程抛光海洋学化学计算机科学工程类程序设计语言地质学操作系统
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2024.108667
DOI	10.1016/j.mssp.2024.108667 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Xiaoyan Liang; Liang Yin; Jijun Zhang; Wenxuan Yang; Chen Xie; et al 出版日期：2024-07-08
求助人	小库里2025 在 2025-02-17 19:29:00 发布自湖北，悬赏 10 积分
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