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标题
A 2nd Generation of 14/16nm-node compatible strained-Ge pFINFET with improved performance with respect to advanced Si-channel FinFETs
第二代14/16 nm节点兼容应变Ge pFINFET，相对于先进的Si沟道FinFET具有改进的性能
相关领域
节点（物理） 频道（广播） 材料科学 光电子学 电子工程 计算机科学 工程物理 工程类 计算机网络 结构工程
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/7569798/7573353/07573368...
DOI
10.1109/vlsit.2016.7573368 doi
其它 期刊：2016 IEEE Symposium on VLSI Technology
作者：J. Mitard; L. Witters; Y. Sasaki; H. Arimura; A. Schulze; et al
出版日期：2016-10-07
求助人
个性的半凡 在 2024-12-19 20:32:53 发布自天津，悬赏 10 积分
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