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 Impact of monolayer WS2 surface properties on the gate dielectrics formation by atomic layer deposition 单层WS2表面性质对原子层沉积形成栅介质的影响
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Z. Lin; Sven Dekelver; Daire Cott; Benjamin Groven; Stefanie Sergeant; et al 出版日期：2024-10-28 |
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