Photoresist Development for 3D Printing of Conductive Microstructures via Two‐Photon Polymerization

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标题	Photoresist Development for 3D Printing of Conductive Microstructures via Two‐Photon Polymerization 基于双光子聚合的导电微结构3D打印光刻胶的研制相关领域光刻胶材料科学 3D打印导电体纳米技术制作微观结构导电聚合物聚合物复合材料医学替代医学病理图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1002/adma.202409326
DOI	10.1002/adma.202409326 doi
其它	期刊：Advanced Materials 作者：Xin Zhou; Xiaojiang Liu; Zhongze Gu 出版日期：2024-10-13
求助人	等待冬易在 2024-11-18 09:22:10 发布自福建，悬赏 10 积分
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