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 The influence of CeO2 abrasive size on the performance of photocatalytic assisted chemical-mechanical polishing by Y/Pr co-doping strategy CeO2磨料粒度对Y/Pr共掺杂光催化辅助化学机械抛光性能的影响
相关领域
磨料
材料科学
光催化
抛光
氧化铈
粒径
兴奋剂
表面粗糙度
化学工程
铈
化学机械平面化
石英
复合材料
氧化物
冶金
催化作用
光电子学
化学
工程类
生物化学
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期刊：Colloids and Surfaces A Physicochemical and Engineering Aspects 作者：Ning Xu; Yuxin Luo; Yu Lin; Jiahui Ma; Yongping Pu 出版日期：2023-12-26 |
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