标题 |
![]() 直流反应溅镀在未加热基片上沉积的氧化铟锡薄膜的电气和光学性能
相关领域
溅射
薄板电阻
氧化铟锡
材料科学
薄膜
透明导电膜
退火(玻璃)
铟
锡
电阻率和电导率
溅射沉积
氧化物
光电子学
沉积(地质)
复合材料
冶金
纳米技术
图层(电子)
工程类
古生物学
电气工程
生物
沉积物
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Thin Solid Films 作者:T. Karasawa; Yutaka Miyata 出版日期:1993-01-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|