Mask deep check to pre-detect defects in curvilinear mask

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标题	Mask deep check to pre-detect defects in curvilinear mask 用于预先检测曲线掩模缺陷的掩模深度检查相关领域曲线坐标计算机科学人工智能计算机视觉计算机图形学（图像）数学几何学
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.23.2.021303
DOI	10.1117/1.jmm.23.2.021303 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Soo‐Yong Lee; Jeeyong Lee; Sinjeung Park; Byungjun Kang; Juyun Park; et al 出版日期：2024-05-26
求助人	Tianling 在 2024-09-02 17:48:10 发布自北京，悬赏 20 积分
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