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All‐Around HfO2 Stressor for Tensile Strain in GeSn‐on‐Insulator Nanobeam Lasers
绝缘体上GeSn纳米束激光器拉伸应变的全HfO2应力源
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期刊:Advanced Optical Materials 作者:Hyo‐Jun Joo; Youngmin Kim; Melvina Chen; Daniel Burt; Lin Zhang; et al 出版日期:2023-09-27 |
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