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 Investigate on material removal of 3C-SiC crystals in nano-polishing via molecular dynamics 纳米抛光中3C-SiC晶体材料去除的分子动力学研究
相关领域
抛光
材料科学
纳米-
机械加工
分子动力学
残余应力
工作（物理）
相（物质）
化学机械平面化
压力（语言学）
机制（生物学）
Crystal（编程语言）
复合材料
纳米技术
机械工程
冶金
计算机科学
化学
计算化学
语言学
哲学
有机化学
认识论
工程类
程序设计语言
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| 其它 |
期刊：Journal of Manufacturing Processes 作者：Huan Liu; Pengyue Zhao; Dongxu Wu; Duo Li; Shunbo Wang; et al 出版日期：2024-04-30 |
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