Investigate on material removal of 3C-SiC crystals in nano-polishing via molecular dynamics

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作者
Huan Liu,Pengyue Zhao,Dongxu Wu,Duo Li,Shunbo Wang,Xifeng Gao,Dawei Wang,Xin Wu,Shujun Huang,Jiubin Tan
出处
期刊:Journal of Manufacturing Processes [Elsevier BV]
卷期号:120: 467-477 被引量:10
标识
DOI:10.1016/j.jmapro.2024.04.080
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