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Synergetic effect of chelating agent and nonionic surfactant for benzotriazole removal on post Cu-CMP cleaning
螯合剂与非离子表面活性剂协同去除苯并三唑对Cu-CMP后清洗的影响
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苯并三唑 化学机械平面化 铜 清洁剂 螯合作用 薄脆饼 肺表面活性物质 材料科学 泥浆 化学工程 扫描电子显微镜 水溶液 化学 纳米技术 冶金 抛光 有机化学 复合材料 工程类
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AI识别 10.1088/1674-4926/37/8/086001 doi
其它 Li Y, Liu Y, Wang C, et al. Synergetic effect of chelating agent and nonionic surfactant for benzotriazole removal on post Cu-CMP cleaning[J]. Journal of Semiconductors, 2016, 37(8): 086001.
求助人
ww 在 2025-03-04 17:47:12 发布自天津，悬赏 10 积分
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