Mechanism of SiNxHy deposition from N2–SiH4 plasma

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标题	Mechanism of SiNxHy deposition from N2–SiH4 plasma N2-SiH4等离子体沉积SiNxHy的机理相关领域二硅烷等离子体化学激进的分析化学（期刊）化学气相沉积沉积（地质）硅烷辉光放电薄膜硅烷材料科学纳米技术有机化学物理生物古生物学量子力学沉积物
网址	https://doi.org/10.1116/1.585008
DOI	10.1116/1.585008 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics Processing and Phenomena 作者：Donald L. Smith; Andrew S. Alimonda; Frederick J. von Preissig 出版日期：1990-05-01
求助人	公冶青枫在 2025-01-03 08:01:33 发布自山东，悬赏 10 积分
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