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标题
Novel negative-tone molecular resist based on polyphenol derivative for extreme ultraviolet lithography
基于多酚衍生物的新型极紫外光刻负性分子抗蚀剂
相关领域
极紫外光刻 抵抗 极端紫外线 材料科学 光学 光谱学 傅里叶变换红外光谱 分析化学（期刊） 光电子学 化学 激光器 纳米技术 物理 有机化学 图层（电子） 量子力学
网址
https://doi.org/10.1116/1.2976599
DOI
10.1116/1.2976599 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena
作者：Hiroaki Oizumi; Takafumi Kumise; Toshiro Itani
出版日期：2008-11-01
求助人
lll6xz 在 2024-11-13 14:44:39 发布自江苏，悬赏 10 积分
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