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标题
Revisiting the mechanisms involved in Line Width Roughness smoothing of 193 nm photoresist patterns during HBr plasma treatment
HBr等离子体处理193 nm光刻胶图形线宽粗糙度平滑机理的再探讨
相关领域
光刻胶 抵抗 材料科学 等离子体 辐照 图层（电子） 纳米 平版印刷术 石墨 表面粗糙度 表面光洁度 纳米尺度 纳米技术 光电子学 复合材料 核物理学 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1063/1.4773068
AI链接 archives-ouvertes.fr archives-ouvertes.fr hal.sciencedoi.org
DOI
10.1063/1.4773068 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：M. Brihoum; R. Ramos; K. Menguelti; G. Cunge; E. Pargon; et al
出版日期：2013-01-04
求助人
小熊 在 2025-01-12 22:58:28 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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