Dual nonionic photoacids synergistically enhanced photosensitivity for chemical amplified resists

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标题	Dual nonionic photoacids synergistically enhanced photosensitivity for chemical amplified resists 双非离子光酸协同增强化学放大抗蚀剂的光敏性相关领域光刻胶甲基丙烯酸酯高分子化学水解化学共聚物聚合物光敏性聚合羧酸磺酸化学改性材料科学有机化学光电子学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.cej.2024.148810
DOI	10.1016/j.cej.2024.148810 doi
其它	期刊：Chemical Engineering Journal 作者：Ling-Yan Peng; Shi-Li Xiang; Jun-Dan Huang; Ying-Yi Ren; Hong Pan; et al 出版日期：2024-02-01
求助人	Diamond 在 2024-10-12 14:38:04 发布自山东，悬赏 10 积分
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