标题 |
Breakdown voltage and TDDB performance improvement by optimizing the PECVD dielectric film characteristics in MIM capacitors
优化MIM电容器PECVD介质膜特性改善击穿电压和TDDB性能
相关领域
随时间变化的栅氧化层击穿
电容器
材料科学
介电强度
等离子体增强化学气相沉积
击穿电压
电介质
薄膜电容器
光电子学
电击穿
工程物理
电气工程
复合材料
电压
电子工程
化学气相沉积
栅极电介质
工程类
晶体管
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其它 |
期刊:Microelectronics Reliability 作者:Huihui Wu; Haisheng Miao; Zhenhua Song; Zhaofeng Li 出版日期:2024-03-14 |
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